系统设计文章列表

泛林集团的选择性刻蚀设备组合正在推进芯片行业下一个重要的技术拐点

泛林集团的选择性刻蚀设备组合正在推进芯片行业下一个重要的技术拐点

作者: 泛林集团总裁兼首席执行官 Tim Archer 在过去的十年里,对于体积更小、密度更高、性能更强大的芯片的需求一直在推动半导体制造商从平面结构向越来越复杂的三维(3D)结构转型。原因 ...
2022年02月28日 17:46   |  
刻蚀   GAA   DRAM  
智能刻蚀带来突破性的生产力提升

智能刻蚀带来突破性的生产力提升

作者:泛林集团 高级副总裁兼刻蚀事业部总经理 Vahid Vahedi 增加电路密度而不必移动到新技术节点的优势使得垂直扩展成为半导体行业的强大驱动力。但它也有一系列挑战,其中关键的挑战便是刻 ...
2022年01月24日 14:55   |  
智能刻蚀   智能设备   芯片制造  
高深宽比刻蚀和纳米级图形化推进存储器的路线图

高深宽比刻蚀和纳米级图形化推进存储器的路线图

探索未来三到五年生产可能面临的挑战,以经济的成本为晶圆厂提供解决方案 作者:泛林集团 先进技术发展事业部公司副总裁潘阳博士、先进技术发展事业部 / CTO办公室研究员 Samantha Tan 和全 ...
2022年01月10日 19:17   |  
刻蚀   EUV   存储器  

赋能开发者,英特尔发布oneAPI 2022工具包

新版工具包显著地扩展了oneAPI跨架构开发的能力范围,供开发者进一步创新 英特尔发布了oneAPI 2022工具包。此次发布的最新增强版工具包扩展了跨架构开发的特性,为开发者提供更强的实用性和 ...
2021年12月23日 18:54   |  
oneAPI   跨架构   加速器   光线追踪  
如何使用LTspice生成LED驱动器的波德图

如何使用LTspice生成LED驱动器的波德图

How to Use LTspice to Produce Bode Plots for LED Drivers 作者:ADI 公司 应用总监 Keith Szolusha 和 应用工程师 Brandon Nghe 摘要 适当的控制环路相位和增益测量应由拥有(昂 ...
2021年12月09日 15:16   |  
LTspice   LED驱动器   波德图  
加速特征相关(FD)干法刻蚀的工艺发展

加速特征相关(FD)干法刻蚀的工艺发展

SEMulator3D中可视刻蚀特征提供了一种模拟与现实刻蚀腔室接近的刻蚀速率的方法 作者:泛林 Lam Research 在干法刻蚀中,由于与气体分子的碰撞和其他随机热效应,加速离子的轨迹是不均 ...
2021年11月15日 16:42   |  
刻蚀   SEMulator3D   干法刻蚀  

本单位急聘机电,机械,电气专业,初中高职称,有意向联系我

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2021年11月08日 14:49
Rambus推出最新CXL 2.0控制器,内置业界领先零延迟IDE安全模块

Rambus推出最新CXL 2.0控制器,内置业界领先零延迟IDE安全模块

Rambus Inc.(纳斯达克股票代码:RMBS)今日宣布推出内置完整性和数据加密(IDE)模块的Compute Express Link(CXL)2.0和PCI Express(PCIe)5.0控制器。在CXL协议上实现超高速数据传输中的安 ...
2021年10月27日 11:07   |  
PCIe 5.0控制器   Rambus   数据传输  
半导体存储器的发展历程与当前挑战

半导体存储器的发展历程与当前挑战

利用SEMulator3D虚拟工艺建模平台应对存储器制造挑战 作者:泛林(Lam Research) 半导体存储器的发展背景 世界上最早的全电子化存储器是1947年在曼彻斯特大学诞生的威廉姆斯-基尔伯恩 ...
2021年10月14日 18:26   |  
SEMulator3D   存储器制造  
数据编排支持人工智能(AI)的下一步发展

数据编排支持人工智能(AI)的下一步发展

Achronix 白皮书(白皮书编号:WP025) 本文概要 从深度嵌入式系统到超大规模数据中心部署,人工智能(AI)和机器学习(ML)技术正在为其中迅速扩展的一系列的产品和应用提供支持。尽管支 ...
2021年09月24日 16:04   |  
数据编排   人工智能   Speedster7t  
ADALM2000实验:发射极跟随器(BJT)

ADALM2000实验:发射极跟随器(BJT)

ADALM2000 Activity: The Emitter Follower (BJT) 作者:ADI公司  Doug Mercer,顾问研究员; Antoniu Miclaus,系统应用工程师 目标 本次实验的目的是研究简单的NPN发射极跟随器, ...
2021年09月01日 14:49   |  
发射极   跟随器   BJT   共集电极   ADALM2000  
扩大英特尔代工合作:IDM2.0的关键一环

扩大英特尔代工合作:IDM2.0的关键一环

英特尔以业界极为广泛的制程技术和先进的封装能力,提供无与伦比的灵活性 本文作者:Stuart Pann,英特尔公司企业规划事业部高级副总裁 本周,在英特尔架构日上,我的同事Raja Koduri和 ...
2021年08月20日 19:08   |  
英特尔   代工  

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